13:30-14:20
Topic"Common Platform’s DFM Methodology for Advanced Technology Nodes"
市场窗口的缩减,开发成本以及复杂度的提高,以及像是High-K金属栅极等创新技术的应用都加速了有效及实用的可制造性设计解决方案的需求。当技术演进到65nm以下设计以及制造方所要面对的重要挑战不再只是单纯的面积、效能、功耗,而是良好且稳定的成品率。本节将会介绍通用平台技术成员–Chartered, IBM and Samsung –以及主要用户采用本公司可制造性设计解决方案。明导电子的解决方案结合了有效设计规则以及工艺模型,促使设计者可以拥有更多的生产信息来作为设计时的取舍。 以及了解更多的关于通用平台在65nm/45nm 以及32nm早期IP以及全芯片阶段所提供实用的可制造性设计方法细节。
14:20-15:10
Topic"Multi-Corner-Multi-Mode P&R for Timing, Power, and SI Closure"