洞悉您最复杂的设计挑战!

Mentor Graphics将于8月在中国上海和北京举办盛大的年度技术论坛---“Mentor Graphics EDA Tech Forum 2004”
Mentor Graphics以本次活动为平台,向大家展示更广阔、功能更齐全的解决方案,其中包括 - 集成电路纳米设计、从设计到芯片的制造完
成,功能验证、系统和PCB设计与IP应用等,同时结合业界的技术领先者,向您提供最先进、尖端的科技解决方案与最佳的售后服务,让您能在最短的时间内,创造出符合客户需求的设计,让产品及早上市,创造极佳的利润。
Mentor Graphics诚挚地邀请您的莅临与指导, 我们期待着您的光临!
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1.Xyratex采用Mentor Graphics PCI Express知识产权开发高级交换行业标准
   2004年6月30日俄勒冈州威尔逊维尔――Mentor Graphics公司(Nasdaq: MENT)今天宣布与Xyratex公司建立知识产权(IP)技术关系,后者是面向高级交换(ASI)数据结构提供企业级存储解决方案的顶级供应商......
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2.Mentor Graphics公司与华为公司共建SoC软硬件协同验证环境
    日前,Mentor和华为共同宣布共同建立SOC软硬件协同验证环境。旨在加强SoC验证方面双方的全面合作。事先,华为已经利用Mentor公司提供的Seamless软硬件协同验证方案成功建立了ARM-based SoC验证环境。利用Seamless协同验证环境,华为已经成功调试......
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3.UMC公司针对其90纳米工艺技术验证Mentor Graphics Calibre xRC寄生提取解决方案
    俄勒冈州威尔逊维尔,2004年6月28日――Mentor Graphics公司(Nasdaq:MENT)日前宣布,其晶体管级寄生参数提取解决方案Calibre? xRC已经通过UMC公司对其90纳米工艺技术进行的硅验证......
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4.中芯国际0.18μm Mixed-Signal工艺采用Mentor Graphics的TDK与Design Flow
    Mentor Graphics公司与中芯国际今日发布SMIC 0.18μm Mixed-Signal工艺技术的TDK。这套源码公开的设计组件,使用Mentor Graphics? 模拟/混合信号(AMS) 集成电路设计流程,使集成电路设计公司可以快速建立他们的使用SMIC 0.18μm工艺技术......
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基于ARM处理器的嵌入式系统的快速设计、验证和优化---------作者:Jim Kenney
    任何片上系统(Soc)项目的成功取决于诸多复杂的、相互关联的因素。所完成的设计功能是否完全正确,系统的性能目标是否已经达到,确认这两点需要经过反复多次的优化。为了达到要求的设计目标,设计人员需要一整套功能强大的......
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1. 使用Calibre工具实现Dummy Pattern/Cell的插入
    为了提高芯片的规模和集成度,降低成本,芯片越来越采用更小尺寸的工艺来制造,但更小尺寸的制造工艺同时也必须考虑更多的问题,density就是其中一个问题。为了解决芯片制造时平坦度问题......
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2004明导(上海)电子科技有限公司Q3产品培训表一览


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